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  法柯特科技(江蘇)有限公司深入掌握先進的鍍膜技術和濺射技術。
  PVD是指在真空條件下,采用低電壓、大電流的電弧放電技術,利用氣體放電使靶材蒸發并使被蒸發物質與氣體都發生電離,利用電場的加速作用,使被蒸發物質及其反應產物沉積在工件上。是由汽化形成所需的膜材料(在濺射靶)凝結到基板(玻璃板,薄膜太陽能電池等)。該涂層技術包括純粹的物理過程,冷凝或等離子濺射轟擊高溫真空蒸發,而不涉及化學反應在表面化學氣相沉積。
  工作時,濺射沉積,輝光等離子體放電(局部目標周圍的磁場)轟擊材料濺射作為基板上的隨后的沉積相。在真空環境下,通過電壓和磁場的共同作用,以被離化的惰性氣體離子對靶材進行轟擊,致使靶材以離子、原子或分子的形式被彈出并沉積在基件上形成薄膜。根據使用的電離電源的不同,導體和非導體材料均可作為靶材被濺射。
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